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2分钟前 苍南保温杯曝光显影厂商来电洽谈 利成感光五金厂[利成感光38dbdb8]内容：
显影工艺是怎样？
前工站加工的玻璃进入显影设备，对需要去除的油墨进行化学反应，进行剥离，然后进行表面清洗，形成高精度的油墨3D盖板。显影操作需控制好显影液的温度、传送速度、喷淋压力等参数。
曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
曝光步骤是将光线聚焦在光刻胶上，而显影步骤则是将底材浸泡在显影剂中达到消除未曝光区域的目的。通过曝光显影技术，可以在微米尺度上制造出高精度的微电子元器件和芯片。显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。为感光的油墨被显影液去除，通过这样的方式，需要蚀刻的图案显影在钢片上面了。
曝光显影可以制造微小的电容、电阻、晶体管、发光二极管或太阳能电池等晶体管器件，快速将电信号转变为其他形式的能量。曝光显影技术可以制造出高精度微纳米级别下的芯片制造工艺，大大提高了芯片质量及其可靠性。预喷淋（p-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水（Deionizedwater，DIW）。
用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中 [1] 。显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中 [1] 。所以的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，曝光设备参数和感光性能，确定适合的曝光时间。
