3分钟前 纳米涂层模具询价咨询「在线咨询」[菱威纳米7b079ef]内容： 与化学吸附自限制过程不同，顺次反应自限制原子层沉积过程是通过活性前驱体物质与活性基体材料表面化学反应来驱动的。这样得到的沉积薄膜是由于前驱体与基体材料间的化学反应形成的。图a和b分别给出了这两种自限制反应过程的示意图。由图可知，化学吸附自限制过程的是由吸附前驱体1（ML2）与前驱体2（AN2）直接反应生成MA原子层（薄膜构成），主要反应可以以方程式⑴表示。对于顺次反应自限制过程首先是活化剂（AN）活化基体材料表面；然后注入的前驱体1（ML2）在活化的基体材料表面反应形成吸附中间体（AML），这可以用反应方程式⑵表示。反应⑵随着活化剂AN的反应消耗而自动终止，具有自限制性。当沉积反应前驱体2（AN2）注入反应器后，就会与上述的吸附中间体反应并生成沉积原子层。

困扰听障人士的，莫过于助听器的日常护理工作，助听器怕脏怕潮湿，而且助听器内的电子元件小型化，抗干扰，等要求，更需要适应各种恶劣的工作环境。随着防水、防潮、防尘技术的不断发展，派瑞林（Parylene）真空纳米镀膜技术在提升助听防护领域得到了很好的应用。

派瑞林涂层作为一种新型的三防材料，存在环保wu毒无气味不污染环境的先天优势，通过气相沉积CVD的方式形成一种致密的防护膜，从而对被涂敷的产品起到防潮防盐雾防霉菌的三防效果。

1、派瑞林真空镀膜设备有效应用于磁性材料领域，派瑞林的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型或者超小型磁材，几乎都采用派瑞林镀膜工艺作绝缘和防护涂层。

2、派瑞林真空镀膜设备有效应用于印制电路组件和元器件领域，镀膜材料通过派瑞林真空镀膜设备使得活性的对二双游离基小分子气在印制电路组件表面沉积聚合完成。气态的小分子能渗透到包括贴装件下面任何一个细小缝隙的基材上沉积，形成分子量约50万的高纯聚合物。

3、派瑞林真空镀膜设备有效应用于微电子集成电路领域，派瑞林的真空气相沉积工艺不仅和微电子集成电路制作工艺相似，而且所制备的派瑞林涂层介电常数也低，还能用微电子加工工艺进行刻蚀制图，进行再金属化，因此派瑞林（Parylene）不仅可用作防护材料，而且也能作为结构层中的介电材料和掩膜材料使用，经派瑞林（Parylene）涂敷过的集成电路芯片，其25um细直径连接线，连接强度可提高5-10倍。

派瑞林涂层真空镀膜加工特性：1.良好的披覆特性远优于Epoxy环氧树脂、Urethane尿烷、Silicone硅树脂等涂装灌胶方式。2. 派瑞林涂层具有高绝缘性。3. 派瑞林涂层具有良好的化学特性，抗UV、耐酸碱。4. 派瑞林涂层优异的热特性可适应于200℃至-200℃的温度范围。5. 派瑞林涂层镀膜工艺，主要特性无孔膜层、膜厚均匀一致。6. 派瑞林涂层材料无色高透明度。派瑞林涂层真空镀膜有别于一般喷涂、灌胶，真空镀膜利用气相沉积镀膜方式不受视线阻碍，需镀膜的产品，其所有的表面皆会被活性单体紧密覆盖镀膜，而达到精细均匀、高质量的镀膜表层，而且易于维修，产品回收使用性高，减少灌胶人力成本。